Vorgerückte Dünnfilm-Technologien hat die Fähigkeit, zum aller Ihrer beschichtenden Anforderungen des Dünnfilms zu entsprechen. Einige Systeme werden allgemein benutzten Schichten, wie, Aluminium ( Al, Al-4%Cu) , Chromium(Cr), Saphire oder Aluminium Oxide(Al 2 _O 3) , Cermet(CrSiO), Copper(Cu), Gold(Au), Indium(In), ITO, Lithium-Fluorid ( LiF), Magnesium(Mg), Magnessium Fluorid, Nickel ( Ni), NiCr Palladium(Pd), Silicon(Si), Quarz oder Silikon Dioxide(SiO 2) , Silikon Monoxide(SO) , Silikon 3 _O 4 _, Silikon- Nitrid, Silver(Ag), Tin(Sn), Titanium(Ti) , Bräunen-TiW-Au   eingeweiht, Ti-Pint-Au, Ti-Palladium-Au, Cr-Ni-Au, Au-Sn und Au-GE. Einiges werden andere Art Materialien auf Lager für schnelle Umdrehung herum anderer Art Schichten gehalten.

Zustand der kunstüberwachung Ausrüstung stellt gleichbleibende Schichten der höchsten Qualität sicher.   Körperliche Dampfabsetzung (PVD) im Vakuum sind die Techniken, die für Dünnfilmabsetzung und -vorbereitung eingesetzt werden. Über sind einige unserer Fähigkeiten, Ihre Anforderungen zu besprechen gefallen in Verbindung treten mit uns.